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钽靶 Ta

概述:

钽具有熔点高、蒸汽压低、冷加工性能好、化学稳定性高、抗液态金属腐蚀能力强、表面氧化膜介电常数大等一系列优异性能。因此,钽在电子、冶金、钢铁、化工、硬质合金、原子能、超导技术、汽车电子、航空航天、医疗卫生和科学研究等高新技术领域有重要应用。

技术参数

元素介绍

元素性质

 中文名

 钽

 膨胀系数

 -

 元素符号

 Ta

 热导率

 57.5W·m-1·K-1

 CAS号

 7440-25-7

 电阻率

 -

 物态

 固体

 杨氏模量

 186 GPa

 密度

 16.69·cm³

 剪切模量

 69 GPa

 熔点

 3017℃

 体积模量

 200 GPa

 沸点

 5458℃

 莫氏硬度

 6.5

 熔化热

 36.57 kJ·mol-1

 布氏硬度

 800Mpa

 汽化热

 732.8 kJ·mol-1

 磁序

 顺磁性

 比热容

 25.36 J·mol-1·K-1

 晶体结构

 体心立方

产品应用

半导体类

使用物理气相沉积(PVD)工艺,将钽溅射靶材“溅射”到半导体衬底上,以形成薄膜扩散势垒来保护铜互连。钽溅射靶材还用于多种其他产品,包括磁存储介质,喷墨打印机头和平板显示器。


发动机涡轮叶片

高熔点和耐腐蚀性能使其非常适合合金化应用。钽用于镍基高温合金,主要用途是飞机发动机的涡轮叶片和陆基燃气轮机。


化学加工设备

具有极高的耐腐蚀和高温性能,使该金属成为化学和制药行业中容器,管道,阀门和热交换器衬里的理想构造材料。