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钨靶 W

概述:

钨靶材是一种以钨为原料制成的材料,通常用于制造电子器件、真空镀膜等。钨靶材具有高纯度、高密度、高硬度、耐高温等特性,因此在许多领域都有广泛的应用前景。
技术参数

高纯钨锭(W)基本信息

  分子式

  W

  纯度

  99.99

  CAS号

  7440-33-7

  分子量

  183.84

  密度

  19.3 g/mL

  沸点

  5660 ℃

  熔点

  3410 ℃

  闪点

  -23 ℃

  熔化热

  3.37×104J/mol

  气化热

  7.369×105J/mol

  溶解性

  化学性质稳定,室温下与空气、水不发生反应,不与酸及溴、碘等反应,但能被钝化。与王水、氢氟酸和硝酸的混合液发生反应。应避免与卤素、强氧化剂接触。溶于硝酸和氢氟酸的混酸。与氢氧化钠和碳酸钠的混合物熔融。微溶于硝酸、硫酸、王水;不溶于水,氢氟酸、氢氧化钾。

 

产品应用

在电子器件制造中,钨靶材可以用于制造电子管、晶体管、集成电路等。由于钨靶材具有高纯度、高密度等特性,可以保证电子器件的性能稳定性和可靠性。

在真空镀膜中,钨靶材可以作为蒸发源,用于制造各种薄膜材料。由于钨靶材具有高硬度、耐高温等特性,可以保证薄膜材料的性能稳定性和可靠性。