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元素介绍 |
元素性质 |
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中文名 |
硅 |
膨胀系数 |
（25℃）2.6μm·m-1·K-1 |
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元素符号 |
Si |
热导率 |
149W·m-1·K-1 |
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CAS号 |
7440-21-3 |
电阻率 |
（20℃）103nΩ·m |
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物态 |
固体 |
杨氏模量 |
130-188 GPa |
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密度 |
2.33g·cm³ |
剪切模量 |
51-80 GPa |
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熔点 |
1414℃ |
体积模量 |
97.6 GPa |
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沸点 |
3265℃ |
莫氏硬度 |
7 |
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熔化热 |
50.21 kJ·mol-1 |
泊松比 |
0.064-0.28[6] |
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汽化热 |
359 kJ·mol-1 |
磁序 |
反磁性 |
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比热容 |
19.789 J·mol-1·K-1 |
晶体结构 |
钻石 |
硅靶材在半导体领域的应用
硅靶材是半导体制造的主要材料之一，广泛应用于IC芯片、太阳能电池、LED、传感器等领域。在半导体工艺中，硅靶材被用于制备单晶硅、硅片和硅膜，具有极高的生产效率和稳定性，能够保证产品的高品质。
硅靶材在电子领域的应用
硅靶材还在电子领域有广泛的应用。在电子器件制造过程中，硅靶材用于制备薄膜晶体管、场效应晶体管、晶体管、二极管等器件，同时也用于制造硅基电路板、磁性材料等。
硅靶材在光学领域的应用
硅靶材在光学领域的应用也十分广泛，被用于制造各种高品质的光学器件，如反射镜、透镜、滤光片、光学玻璃等。硅靶材的高纯度能够保证光学器件的清晰、稳定和精度。
