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氧化铪靶 HfO2

概述:

氧化铪光学薄膜具有高折射率、低损耗以及较好的热稳定性,因此可用于制备高性能的光学镀膜。这类镀膜在光通信、光存储、光电显示等领域有广泛应用。
技术参数

  材料名称

  氧化铪

  分子式

  HfO2

  CAS号

  12055-23-1

  分子量

  210.489

  密度

  9.68 g/mL at 25℃(lit.)

  熔点

  2812℃

  折射率

  2.13

产品应用

氧化铪薄膜介电性能高,在晶体管、电容器等微电子领域有重要应用前景。

光电子器件:氧化铪光学薄膜在光电子器件领域也有广泛应用,如用作光波导、光开关、光调制器等。这些器件在光通信、光计算、光存储等领域具有重要意义。